法國MPC，CVSmart電鍍液光亮劑分析儀，深圳普分聯系人：肖先生 13802278793 QQ：185412738 E-mail:xzhyt@163.com
循環伏安剝離分析技術就是Cyclic Voltammetric Stripping(CVS)可以用來實現對電鍍中1有機物和污染物的分析。槽液中的添加物*終會影響線路板金屬涂層的延展性，拉力，甚至*終的可焊性。對有機添加物的常態化檢查是保證產品質量的重要手段。
和哈氏槽分析不同，循環伏安剝離分析(CVS)能夠提供更定量的分析結果。哈氏槽實驗能夠提供一個定性分析，但是循環伏安溶出分析CVS分析技術能夠為用戶提供**的信息，有助于他們更好的控制好槽液。
簡介
循環伏安溶出分析(CVS)可以用于分析電鍍溶液中的有機物，這個結果也是基于槽內有機物在電鍍中的反應。不管用戶需要測試的是光亮劑，抑制劑，甚至是整平劑，或者其他，這些有機物都可以被電鍍的速度所反應。
此分析過程的實現是通過三電極系統完成，其中的工作電極是圓盤旋轉電極。在測試過程中，工作電極上的電流由儀器輸出控制。電流會在設定的正負電壓之間按照固定的速率掃描。在這個過程中，在槽液中的金屬會不斷地剝離或者沉積在電極上。工作電極上電量也會被記錄下來。
不同特性添加物*終會影響電極上金屬沉積的速率。而電鍍速度可以通過從工作電極上剝離金屬所需要的電流來計算。剝離電流和添加物的特性之間的關系也就可以計算添加物的成分。*后的測試結果也可以以濃度ML/L 來表現。
這些測試數據我們可以用過MPC的分析儀器來實現。CVSmart是一個單樣品分析儀器，當然也可以外接自動滴定裝置實現去自動分析. T100可以實現多樣品的全自動分析，并且自動清洗測試過程中電極。
槽液曲線分析
典型的槽液中測試獲得伏安圖（被測電流和施加電壓）。X軸表現的是施加電勢的變化：從負到正。Y軸表現的是被測電流。
金屬沉積區域：此區域電流為負，此時工作電極上金屬沉積在上面。因為電鍍時間可以通過掃描速率**獲得，電鍍速率也可以可以從中導出。
金屬剝離區域：金屬從電極表面剝離，此時電流為正。將金屬剝離所需要的電量可以以正電流面積來表現。面積的計算我們可以通過積分獲得。此面積通常我們用mC來表示。很顯然剝離金屬和沉積金屬的總量也是一樣，伏安圖上正面積也和金屬沉積的總量存在一定的比例關系。我們也認為可以通過計算剝離過程中的電流面積來表現鍍銅量。因為在沉積過程中，其他電化學反應比如氫還原也許也會發生。
