在電鍍過(guò)程中，有機(jī)添加劑經(jīng)歷了多種化學(xué)變化(如氧化、還原、裂解、聚合等)，這些變化也會(huì)影響電鍍過(guò)程。許多分析技術(shù)(如分光法，高壓液相法)可以測(cè)量添加劑的**濃度，但是對(duì)于發(fā)生化學(xué)變化的添加劑利用這些分析技術(shù)是無(wú)法準(zhǔn)確檢測(cè)的，循環(huán)伏安剝離電鍍技術(shù)(Cyclic Voltammetric Stripping簡(jiǎn)稱CVS)則有效的避免了這個(gè)問(wèn)題。

    CVS是基于有機(jī)添加劑對(duì)電鍍速度的影響(即抑制劑和整平劑降低電鍍速度，光亮劑提高電鍍速度)作為測(cè)量信號(hào)的一種**技術(shù)，通過(guò)在鉑金電極表面電鍍和剝離銅來(lái)模擬實(shí)際電鍍環(huán)境，從而真實(shí)的定量分析添加劑濃度。CVS分析可提供比傳統(tǒng)哈氏槽法更客觀的信息，哈氏槽法是對(duì)電鍍液定性分析，而CVS能夠**的定量分析從而確定電鍍槽中添加劑的需補(bǔ)充量，使電鍍槽中添加劑濃度保持在*佳范圍。

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